Parameter produk Mesin basuh plasma TS-AP8000:

Mesin basuh plasma TS-AP8000 Ciri-ciri produk:

Reka bentuk perkakasan perindustrian ketenteraan untuk senario keras yang berbeza
Kawalan digital, paparan digital, pemantauan masa nyata, rintangan gangguan yang kuat;
Menggunakan litar suis lembut penuh jambatan jenama Ti, kecekapan litar suis keras analog relatif boleh meningkatkan lebih daripada 10%, masa tindak balas kurang daripada 0.1s, anti gangguan yang kuat;
Cip kawalan faktor kuasa PFC dengan jenama Ti yang diimport
Dengan cip ARM jenama ST, interaksi manusia-komputer mudah dan jelas, komunikasi debug jauh yang kuat
Senario aplikasi, perisian yang dibangunkan secara bebas untuk membuat penilaian pintar dan menyelaraskan kerja data yang dikumpulkan dalam masa nyata, yang boleh mencapai penyesuaian kuasa, kestabilan tanpa perubahan;
Berbanding dengan perubahan voltan grid model biasa, perubahan tekanan sumber udara, perubahan kuasa yang disebabkan oleh kehilangan muncung, kuasa boleh ditetapkan dalam masa nyata dalam cara kawalan digital, julat kuasa yang boleh laras diperluaskan 4 kali;
Sokongan antara muka komunikasi IO jauh, fungsi komunikasi jauh yang kuat;
Menyediakan 3 fungsi pengesanan masa nyata berikut, pengesanan tekanan udara, pengesanan suhu papan induk, pengesanan semasa puncak utama penukar,
Mempunyai perlindungan suhu berlebihan, perlindungan beban berlebihan, litar pendek, pemutusan litar, beban berlebihan, perlindungan kebocoran, pelbagai perlindungan salah operasi dan fungsi perlindungan lain.
Boleh digabungkan dengan barisan pengeluaran, boleh beroperasi berterusan dan meningkatkan kelajuan pengeluaran;
Kos gas yang rendah (CDA / N2), menjimatkan kos;
Teknologi pelepasan paten eksklusif, kepekatan plasma yang tinggi.

Mesin basuh plasma tekanan biasaoleh EquationKetiga bahagian utama peranti generasi, sistem penghantaran gas dan senjata semprot plasmaBesar.Pembersihan Plasma GasMesin basuh bergantung kepada tenaga elektrik untuk menghasilkan tekanan tinggi dan tenaga frekuensi tinggi. Tenaga ini diaktifkan danPlasma suhu rendah dihasilkan dalam pelepasan cahaya yang dikawal, menggunakan ruang pemampatan untuk menyemburkan plasma ke permukaan pemprosesan, membolehkan pemprosesanJadualPermukaan menghasilkan perubahan fizikal dan kimia yang sesuai.Permukaan objek yang dirawat dibersihkan, mengeluarkan minyak, bahan tambahan dan lain-lain, menghapuskan elektrostatik permukaan. Pada masa yang sama, permukaan telah diaktifkan, menambah pelekat, yang memberi manfaat kepada pelekat produk, semburan, percetakan dan meterai.